[实用新型]一种5微米高抗拉铜箔水洗装置有效

专利信息
申请号: 202220404512.4 申请日: 2022-02-28
公开(公告)号: CN217342509U 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 张泽兴;江泱;杨帅 申请(专利权)人: 九江德福科技股份有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B1/02;B08B13/00;F26B5/14;B01D35/027;B01D29/31
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 332000 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 实用新型提供一种5微米高抗拉铜箔水洗装置,涉及电解铜箔制造过程中水洗技术领域,包括清洗箱,清洗箱的底端四角均安装有立柱,清洗箱的一侧连接有进料口,进料口的内侧转动连接有进料辊,清洗箱的另一侧连接有出料口,出料口的内侧转动连接有出料辊,清洗箱的一侧安装有机箱,清洗箱的底端连接有收集斗,清洗箱的内部转动连接有若干输送辊,清洗箱的内部安装有一对第一喷水管,清洗箱的内部安装有一对第二喷水管,第一喷水管的一侧和第二喷水管的一侧均安装有若干喷头,清洗箱的内部转动连接有第一清洁辊,清洗箱的内部转动连接有第二清洁辊。本实用新型能有效实现循环再利用功能,且清洁效果较好,具有较高的实用价值。
搜索关键词: 一种 微米 高抗拉 铜箔 水洗 装置
【主权项】:
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