[实用新型]一种半导体芯片湿法刻蚀装置有效

专利信息
申请号: 202220013001.X 申请日: 2022-01-05
公开(公告)号: CN216719882U 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 沈德波 申请(专利权)人: 丹东安顺微电子有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京中仟知识产权代理事务所(普通合伙) 11825 代理人: 刘文骞
地址: 118000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型涉及一种半导体芯片湿法刻蚀装置,包括加工箱,加工箱内设置有加工腔,加工腔的顶部设置有多组喷头,加工腔内沿水平方向设置有安装板,安装板的上端面设置有可沿水平方向滑动的托板,托板的上端面转动连接有多组立柱,立柱的顶端轴向固定有安放台,安装板的下端面设置有多组微型伺服电机,安装板和喷头之间设置有井字型隔板,喷头、井字型隔板与立柱配合设置,托板的上端面边缘处固定有挡板,挡板之间首位连接,挡板和托板之间形成收集槽。喷头、安放台和井字隔板的设计,可同时加工多组不同尺寸的芯片,避免不同芯片上的处理液飞溅互相影响,大大提高加工效率;托板和安装板的设计,可方便取放芯片。
搜索关键词: 一种 半导体 芯片 湿法 刻蚀 装置
【主权项】:
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