[实用新型]一种半导体芯片湿法刻蚀装置有效
| 申请号: | 202220013001.X | 申请日: | 2022-01-05 |
| 公开(公告)号: | CN216719882U | 公开(公告)日: | 2022-06-10 |
| 发明(设计)人: | 沈德波 | 申请(专利权)人: | 丹东安顺微电子有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京中仟知识产权代理事务所(普通合伙) 11825 | 代理人: | 刘文骞 |
| 地址: | 118000 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型涉及一种半导体芯片湿法刻蚀装置,包括加工箱,加工箱内设置有加工腔,加工腔的顶部设置有多组喷头,加工腔内沿水平方向设置有安装板,安装板的上端面设置有可沿水平方向滑动的托板,托板的上端面转动连接有多组立柱,立柱的顶端轴向固定有安放台,安装板的下端面设置有多组微型伺服电机,安装板和喷头之间设置有井字型隔板,喷头、井字型隔板与立柱配合设置,托板的上端面边缘处固定有挡板,挡板之间首位连接,挡板和托板之间形成收集槽。喷头、安放台和井字隔板的设计,可同时加工多组不同尺寸的芯片,避免不同芯片上的处理液飞溅互相影响,大大提高加工效率;托板和安装板的设计,可方便取放芯片。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 半导体 芯片 湿法 刻蚀 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于丹东安顺微电子有限公司,未经丹东安顺微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202220013001.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种服装吊牌快速穿绳装置
- 下一篇:一种提高铸件下芯效率的夹具
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





