[发明专利]测量硅片中氧含量的方法及装置在审
| 申请号: | 202211526980.X | 申请日: | 2022-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN115839894A | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
| 发明(设计)人: | 徐鹏;衡鹏 | 申请(专利权)人: | 西安奕斯伟材料科技有限公司 |
| 主分类号: | G01N5/00 | 分类号: | G01N5/00;G01N21/3504;H01L21/66 |
| 代理公司: | 西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) 61253 | 代理人: | 侯丽丽;宋东阳 |
| 地址: | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: |
本发明实施例公开了测量硅片中氧含量的方法及装置,所述方法包括:将形成有氧化膜的硅片样品与还原剂投入反应腔室中进行第一阶段的煅烧以使所述氧化膜被氧化还原,并通过检测反应生成的CO和/或CO |
||
| 搜索关键词: | 测量 硅片 含量 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安奕斯伟材料科技有限公司,未经西安奕斯伟材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211526980.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。





