[发明专利]反射型阵列基板及其制作方法、显示装置及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202211502939.9 申请日: 2022-11-28
公开(公告)号: CN115718387A 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 董水浪;曲燕;卢鑫泓;谢昌翰;李国腾;李柳青;周靖上 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1362;G02F1/135;G02F1/1368;H10K19/10;H10K10/46;H10K10/80;H10K71/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 姚楠
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供了一种反射型阵列基板及其制作方法、显示装置及其制作方法,通过将光反射结构设置在衬底基板和有机薄膜晶体管阵列层之间,在形成有机薄膜晶体管阵列层之前形成光反射结构,相对于利用像素电极作为光反射层的现有技术,避免了在过厚的平坦化层上进行过孔工艺,并且有机薄膜晶体管阵列层制程工艺所需的温度均低于150℃,该温度下不会破坏光反射结构的结构和性能。因此,本发明实施例降低了反射型LCD制备工艺的难度,且无需对现有制备工艺进行较大改动。并且,本发明实施例提供的反射型阵列基板结合有机薄膜晶体管阵列层制程温度低和光反射结构无需背光、反射率高的特点,实现反射型LCD显示器件,利于视觉保护。
搜索关键词: 反射 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
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