[发明专利]传感芯片投影光刻机匹配方法有效

专利信息
申请号: 202211416778.1 申请日: 2022-11-14
公开(公告)号: CN115457299B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 刘俊伯;张清延;孙海峰;全海洋;杜婧 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G06V10/75 分类号: G06V10/75;G06V10/762;G06V10/774;G06V10/82;G06N3/0464;G06N3/084
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 江亚平
地址: 610041 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种传感芯片投影光刻机匹配方法。所述方法基于深度学习,利用预先标签的图形数据集通过三元子损失函数训练出能够较好表达图片源域到目标域映射关系的卷积神经网络,同时引入工艺窗口到目标函数中从而保证不会过拟合并在模型训练过程后的模型筛选后的关键图形的工艺窗口表现更好。本发明通过训练过后的卷积神经网络能够获得所选待优化图形的聚类结果和关键图形组,简化了繁杂的筛选分类规则,实现了端到端的关键图形筛选。此外,对于不同特征的传感芯片图形,本发明有效提高投影光刻机的工作效率。
搜索关键词: 传感 芯片 投影 光刻 匹配 方法
【主权项】:
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