[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头和化学机械抛光设备在审
申请号: | 202211325516.4 | 申请日: | 2022-10-27 |
公开(公告)号: | CN115502882A | 公开(公告)日: | 2022-12-23 |
发明(设计)人: | 温世乾;路新春;赵德文;孟松林;李润豪 | 申请(专利权)人: | 华海清科股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B37/27;B24B37/34;B24B57/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300350 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头和化学机械抛光设备,该承载头包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜和保持环;所述平衡架可滑动地设置于连轴盘的中心通孔内并通过平衡架的底部带动承载盘相对于连轴盘上下移动,柔性膜的一部分被夹紧至承载盘下部以形成密封腔室;所述承载盘的靠近边缘与保持环邻接的对应位置设有磁吸部,用于吸合保持环。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 化学 机械抛光 承载 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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