[发明专利]一种快恢复二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202211234158.6 申请日: 2022-10-10
公开(公告)号: CN115312591B 公开(公告)日: 2022-12-23
发明(设计)人: 李伟聪;伍济 申请(专利权)人: 深圳市威兆半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/47 分类号: H01L29/47;H01L29/868;H01L21/329
代理公司: 北京惟盛达知识产权代理事务所(普通合伙) 11855 代理人: 陈钊
地址: 518000 广东省深圳市南山区桃源街道福*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于功率半导体器件技术领域,具体涉及一种快恢复二极管,其从上至下依次包括阳极金属、N型漂移区、N型衬底和阴极金属;还包括P型轻掺杂区、P型重掺杂区、沟槽和SiO2介质层;沟槽内填充掺杂多晶硅,掺杂多晶硅从上至下依次包括第一N型掺杂多晶硅、第二N型掺杂多晶硅和P型掺杂多晶硅;第一N型掺杂多晶硅与阳极金属形成肖特基接触;第一N型掺杂多晶硅的深度大于P型重掺杂区的深度;SiO2介质层沿沟槽外壁包围掺杂多晶硅并设有断口,断口位于第二N型掺杂多晶硅远离P型轻掺杂区的一侧。本发明通过在沟槽内填充掺杂多晶硅形成肖特基区域,SiO2介质层设有断口,使快恢复二极管具有更低的反向恢复损耗和更优的软度。
搜索关键词: 一种 恢复 二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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