[发明专利]具有金属、电介质及氮化物兼容性的抗反射涂层清洗及蚀刻后残留物去除组成物在审
| 申请号： | 202211084009.6 | 申请日： | 2015-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN115368982A | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 埃马纽尔·I·库珀;斯蒂芬·里皮;宋凌雁 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司 |
| 主分类号： | C11D7/08 | 分类号： | C11D7/08;C11D7/26;C11D7/50;C11D7/60;G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 李婷 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种具有金属、电介质及氮化物兼容性的抗反射涂层清洗及蚀刻后残留物去除组成物。特别的，本申请提供了一种从其上具有抗反射涂层ARC材料及/或蚀刻后残留物的衬底去除所述ARC材料及/或蚀刻后残留物的液体去除组成物及方法。所述组成物在集成电路的制造中实现ARC材料及/或蚀刻后残留物的至少部分去除同时对所述衬底上的金属物质(例如铝、铜及钴合金)有最小蚀刻，且不会损坏半导体架构中所采用的低k电介质及含氮化物材料。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 金属 电介质 氮化物 兼容性 反射 涂层 清洗 蚀刻 残留物 去除 组成 | ||
【主权项】：
暂无信息
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