[发明专利]电离层高度与目标位置联合优化的短波时差定位方法在审
| 申请号： | 202210972440.8 | 申请日： | 2022-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN115524661A | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | 李蕊;邓亭强;窦修全;张润生;王艳温 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第五十四研究所 |
| 主分类号： | G01S5/02 | 分类号： | G01S5/02 |
| 代理公司： | 河北东尚律师事务所 13124 | 代理人： | 王文庆;曲佳颖 |
| 地址： | 050081 河北省石家庄市中山*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明属于信号参数测量与估计领域，公开了一种电离层高度与目标位置联合优化的短波时差定位方法，首先建立短波超视距时差定位模型；然后对接收信号采用二维互模糊相关算法求取任意两个接收站间的时延差；接着在视距场景即假设电离层高度为零时，利用Chan算法求得粗定位结果；最后在粗定位结果的基础上，利用遗传算法联合优化电离层高度与目标位置以获取精确定位结果。与现有的技术相比，本发明提供的方案不需要有关电离层参数的先验信息即可实现高精度有效定位，算法应用范围广，鲁棒性强，实施简单。 | ||
| 搜索关键词： | 电离层 高度 目标 位置 联合 优化 短波 时差 定位 方法 | ||
【主权项】：
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