[发明专利]一种基于氧等离子体处理的二维半导体铁电栅型晶体管结构光电探测器件在审

专利信息
申请号: 202210894940.4 申请日: 2022-07-27
公开(公告)号: CN115440844A 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 张永哲;黎旭红;陈小青;刘发民 申请(专利权)人: 北京工业大学;北京航空航天大学
主分类号: H01L31/112 分类号: H01L31/112;H01L31/18
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张立改
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种基于氧等离子体处理的二维半导体铁电栅型晶体管结构光电探测器件,属于光电探测技术领域。以硅/二氧化硅为衬底,二氧化硅上为二维铁电半导体材料选用α‑In2Se3,二维铁电材料α‑In2Se3上表面经过氧等离子体处理后形成界面绝缘介质层,绝缘介质层上边用机械剥离方法制备二维过渡金属硫族化合物;在二维铁电半导体材料和二维过渡金属硫族化合物上分别通过电极粘附层粘结金属电极。所述器件在二维铁电栅的作用下,得到暗电流低,响应度高的光电探测性能;该器件还有一定光记忆功能,适用于探测记忆一体的多功能器件;本发明的栅介质层制备方法简易,适用于大规模制备,成本低;可应用于光电探测技术领域和人工视觉仿生领域。
搜索关键词: 一种 基于 等离子体 处理 二维 半导体 铁电栅型 晶体管 结构 光电 探测 器件
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学;北京航空航天大学,未经北京工业大学;北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210894940.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top