[发明专利]蚀刻设备和蚀刻方法有效
| 申请号： | 202210880934.3 | 申请日： | 2022-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN115083871B | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 戴建波;孙文彬 | 申请（专利权）人： | 江苏邑文微电子科技有限公司;无锡邑文电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/18 | 分类号： | H01J37/18;H01J37/305;H01L21/67;F04D19/04;F04D25/16 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 姜波 |
| 地址： | 226400 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供了一种蚀刻设备和蚀刻方法，涉及半导体技术领域。蚀刻设备包括主反应箱、加热副箱、第一真空系统和第二真空系统；加热副箱和主反应箱连通；第一真空系统包括第一管路和动力泵，第一管路与加热副箱连通，动力泵设于第一管路上，用于将加热副箱和主反应箱抽至第一真空状态；第二真空系统包括第二管路和分子泵，第二管路与加热副箱连通，分子泵设于第二管路上，用于将加热副箱和主反应箱抽至第二真空状态。第一真空系统和第二真空系统分开设计，有利于提高抽真空的效率，同时保护分子泵，提高分子泵的工作稳定性，延长分子泵的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
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