[发明专利]用于生成掩模图案的方法

摘要

本文描述了一种用于为光刻过程生成掩模图案的方法。这涉及通过应用第一平滑函数来生成分段掩模图案的平滑表示，并且通过多个分段特征中的一个或多个的变化集合调整分段掩模图案。进一步，通过使用经调整的分段掩模图案的平滑掩模图案，直到终止条件被满足为止，图案化过程模拟以迭代方式被执行。在每次迭代中，在调整分段掩模图案时，平滑掩模图案由过程模型生成和使用以模拟图案化过程。一旦所述终止条件被满足，作为结果的分段掩模图案被获得。然后，最终掩模图案通过将第二平滑函数应用于作为结果的分段掩模图案来生成。