[发明专利]一种MXene纳米片薄膜及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202210847735.2 申请日: 2022-07-19
公开(公告)号: CN115231833A 公开(公告)日: 2022-10-25
发明(设计)人: 苗艳勤;卢琦晴;赵敏;王国良;郭园园;王华 申请(专利权)人: 太原理工大学;山西浙大新材料与化工研究院
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34;H01L51/50;C01B32/921
代理公司: 太原华弈知识产权代理事务所 14108 代理人: 李毅
地址: 030024 *** 国省代码: 山西;14
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及一种MXene‑Ti3C2Tx纳米片薄膜,是将MXene‑Ti3C2Tx分散在分散介质中形成分散液,均匀涂覆于基底表面,经退火处理除去分散介质形成薄膜,再对薄膜表面进行紫外臭氧处理后得到的纳米片薄膜。本发明通过紫外臭氧处理对纳米片薄膜进行表面改性改善其功函数,提高薄膜的空穴注入能力,可以作为空穴注入层材料,应用于OLEDs的制备中。
搜索关键词: 一种 mxene 纳米 薄膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
暂无信息
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