[发明专利]一种微机械泄气结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202210748025.4 | 申请日： | 2022-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN115159441A | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 何政达;万蔡辛;赵成龙;陈骁;林谷丰;蔡春华;巩啸风;蒋樱 | 申请（专利权）人： | 无锡韦感半导体有限公司 |
| 主分类号： | B81B7/00 | 分类号： | B81B7/00;B81B3/00;B81B7/02;B81C1/00;H04R19/00;H04R19/04;H04R31/00 |
| 代理公司： | 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 | 代理人： | 陈琳琳;武玥 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市新吴*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微机械泄气结构及其制备方法，所述通道包括泄气孔或泄气孔和泄气阀门、连接区、泄气通道主体和气体流动通道；泄气孔设置在上结构层，正对下结构层上方可动结构层固定区域旁，泄气通道主体设置为弯折或绕折微泄气通道，一端连接气体流动通道，另一端通过连接区和泄气孔相连。制备方法：在下结构层上沉积牺牲层，光刻刻蚀形成凹槽；沉积锚区释放停止结构层，光刻刻蚀或CMP去除部分释放停止膜层；沉积上结构层，光刻刻蚀形成结构层有效区域及泄气孔或泄气孔和泄气阀门；下结构层背面光刻刻蚀，刻蚀停止在牺牲层，形成气体流动通道；释放部分牺牲层，形成泄气通道主体和连接区。本发明减少了正常声压条件下器件工作时的有效声压损失。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微机 泄气 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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