[发明专利]一种应用于光学相控阵的基于交错刻蚀的多层结构波导光栅天线及其制备方法在审
| 申请号： | 202210680007.7 | 申请日： | 2022-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN115220150A | 公开（公告）日： | 2022-10-21 |
| 发明（设计）人： | 伯扬;蔡艳;王金玉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G02B6/12 | 分类号： | G02B6/12;G02B6/124;G02B6/13;G02B6/136 |
| 代理公司： | 上海泰博知识产权代理有限公司 31451 | 代理人： | 魏峯 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种应用于光学相控阵的基于交错刻蚀的多层结构波导光栅天线及其制备方法，由下至上包括衬底(1)、波导区和顶部氧化层(5)；所述波导区由下至上包括第一波导层(2)、隔离层(3)和第二波导层(4)；其中，所述第二波导层(4)具有交错设置的深浅沟槽。本发明减少了光向衬底的泄露，提高了光向上发射的比例，进而提高了光栅的发射效率，同时具有有效发射长度长的优点，有助于相控阵列探测距离的提升和高功率输出器件的实现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 光学 相控阵 基于 交错 刻蚀 多层 结构 波导 光栅 天线 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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