[发明专利]具有大视场的投影光刻物镜光学系统在审
| 申请号： | 202210563830.X | 申请日： | 2022-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN115145125A | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 刘鹏 | 申请（专利权）人： | 张家港中贺自动化科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/08 |
| 代理公司： | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人： | 陈松 |
| 地址： | 215614 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有大视场的投影光刻物镜光学系统，物镜光学系统具有大视场、易于生产加工的特点，同时热稳定性好可以满足大曝光剂量的需求，设置有：第一镜组、第二镜组、第三镜组和第一反射镜，由物面发射的光束依次经过第一镜组、第二镜组、第三镜组后，经过第一反射镜反射，再依次经过第三镜组、第二镜组、第一镜组后汇聚成像到像面，物镜光学系统满足关系式：0.25f1/L1.1、0.17f2/L0.72、0.24‑f3/L0.95，其中，f1、f2、f3为第一、二、三镜组的组合焦距，L为物镜光学系统的物面至像面的光学距离，Hy为视场的半径。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 视场 投影 光刻 物镜 光学系统 | ||
【主权项】：
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