[发明专利]一种用于降解吡啶的光催化材料、改性光催化填料及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 202210537602.5 | 申请日： | 2022-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN114904529B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 周庆;陈禹融;王馨;雷冲天;张子昂;陈军霞;周伟伟 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | B01J23/847 | 分类号： | B01J23/847;B01J37/10;C02F9/00;C02F3/12;C02F3/10;C02F1/30;C02F101/38 |
| 代理公司： | 江苏瑞途律师事务所 32346 | 代理人： | 吴雪健 |
| 地址： | 210093*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种用于降解吡啶的光催化材料、改性光催化填料及其制备方法与应用，属于光催化技术领域。它包括将偏钒酸盐、纳米磁铁矿Fe |
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| 搜索关键词： | 一种 用于 降解 吡啶 光催化 材料 改性 填料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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