[发明专利]一种微机械剥离图案化二维材料及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202210395800.2 申请日: 2022-04-15
公开(公告)号: CN114895529A 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 张跃;刘璇;张铮;黄梦婷;卫孝福;王利华;尚金森;陈匡磊;于慧慧;高丽 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/16;G03F7/42;G03F7/40
代理公司: 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 代理人: 张仲波
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种微机械剥离图案化二维材料的制备方法,包括如下步骤:S101:在初始衬底上剥离出过渡金属硫化物的二维材料;S102:将剥离出的所述二维材料转移至所需使用的目标衬底上;S103:在所述基底上旋涂电子束光刻胶,将其烘干后用电子束曝光的方式将所述基底上的电子束光刻胶层图案化;S104:将所述步骤S103处理后的基底浸没在丙酮溶液中,然后取出并加热,去除电子束光刻胶,得到微机械剥离图案化二维材料。本发明的微机械剥离图案化二维材料的制备方法,剥离速度快,操作简单成本低,适用于大范围推广。本发明方法制备得到的图案化的机械剥离二维材料图案化质量高,不易被污染。
搜索关键词: 一种 微机 剥离 图案 二维 材料 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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