[发明专利]一种缺氮的亚氮化钛薄膜、其制备方法及其在制备单晶硅太阳能电池器件中的应用在审

专利信息
申请号: 202210387779.1 申请日: 2022-04-13
公开(公告)号: CN114959605A 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 马忠权;兰自轩;赵磊;王艺琳;徐飞 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06;H01L31/0216
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种缺氮的亚氮化钛薄膜、其制备方法及其在制备单晶硅太阳能电池器件中的应用,将基底清洗干净;将基底放入样品架上,以纯Ti靶为原材料,采用直流反应磁控溅射制备工艺;在溅射过程中腔室内通入高纯N2气;起辉后将溅射压强调整到低压下制备TiNx薄膜。本发明拓展了TiNx薄膜的制备方法和单晶硅太阳能电池背部钝化接触层的选择,得到的TiNx薄膜具有高电子浓度和非化学配比的特性。本发明将SiOy/TiNx复合薄膜应用于晶硅太阳能电池,起到很好的辅助钝化接触效果,取决于它的电子结构与荷电的“正离子中心”。缺N的TiNx薄层与n‑Si衬底之间的势垒,有效地降低了少数载流子(空穴)的复合率,大大提高太阳能电池的开路电压,进而达到增强光电转换效率的目的。
搜索关键词: 一种 氮化 薄膜 制备 方法 及其 单晶硅 太阳能电池 器件 中的 应用
【主权项】:
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