[发明专利]一种含有两个硅氢键的邻二硅基化合物及其合成方法和应用在审
| 申请号： | 202210367914.6 | 申请日： | 2022-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN116925120A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 陆展;程朝阳;李明桦;张兴宏 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | C07F7/08 | 分类号： | C07F7/08;C08G77/60 |
| 代理公司： | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人： | 赵芳 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种含有两个硅氢键的邻二硅基化合物，如式VI所示，并公开了以炔烃和硅烷为原料，高效率、高区域选择性的合成邻二硅基化合物的制备方法。该方法反应条件温和，操作简便，原子经济性高，无有毒过渡金属(如钌、铑、钯等)盐类的加入，且反应区域选择性非常高，基本为单一区域选择性。含有两个硅氢键的邻二硅基化合物为本发明首次合成，该化合物可以用于合成式A所示的含硅聚合物，所合成的聚合物具有非常高的折光率以及阿贝数，有望应用于新型光学材料领域。#imgabs0# | ||
| 搜索关键词： | 一种 含有 两个 氢键 邻二硅基 化合物 及其 合成 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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