[发明专利]一种基于离子抛光技术在金刚石上沉积氮化铌的方法在审
| 申请号： | 202210331563.3 | 申请日： | 2022-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN114774868A | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 贾小氢;黄明雪;汪潇涵;石洪恺;徐韬;陶涛;涂学凑;赵清源;张蜡宝;康琳;陈健;吴培亨 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/06 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 封睿 |
| 地址： | 210093 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于离子抛光技术在金刚石衬底上沉积氮化铌薄膜的方法，使用离子刻蚀技术对金刚石衬底进行抛光处理，离子刻蚀气体采用氩气，流速为7sccm，能量为500eV，束流为90mA，角度为85°，刻蚀速率为2.5nm/min，刻蚀时间为1h；使用直流磁控溅射法在抛光的金刚石上制备氮化铌薄膜。本发明通过对金刚石薄膜进行抛光处理，将其表面平整度均方根(RMS)从7.7nm降至0.6nm，极大地提高了金刚石的表面平整度，并通过磁控溅射在抛光后的衬底上制备了高质量氮化铌薄膜，薄膜平整度和超导性能均满足超导薄膜器件的制备需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 离子 抛光 技术 金刚石 沉积 氮化 方法 | ||
【主权项】：
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