[发明专利]真空处理装置在审
| 申请号： | 202210309507.X | 申请日： | 2018-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN114709124A | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 松崎淳介;高桥明久;水岛优 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C14/56 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李婷;张一舟 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中，效率良好地对基板的两个表面进行处理，实现装置的小型化以及构成的简单化。运送通路具有将基板保持器（11）分别以水平状态向第一运送方向（P1）运送的往路侧运送部（33a）、向与第一运送方向（P1）相反的第二运送方向（P2）运送的返路侧运送部（33c）、从往路侧运送部（33a）朝向返路侧运送部（33c）的运送折返部（30B），借助基板保持器运送机构（3）的第一驱动部（36）运送基板保持器（11）。将具有第二驱动部（46）的方向转换机构（40）设置在运送折返部（30B）的附近。使基板保持器运送机构（3）的第一驱动部（36）和方向转换机构（40）的第二驱动部（46）同步而动作，将第一以及第二被驱动轴（12、13）沿方向转换机构（40）的第一以及第二方向转换通路（51、52）分别引导运送，将基板保持器（11）在维持了上下关系的状态下从往路侧运送部（33a）向返路侧运送部（33c）交付。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 装置 | ||
【主权项】：
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