[发明专利]半导体光学检测方法及系统在审

专利信息
申请号: 202210296167.1 申请日: 2022-03-24
公开(公告)号: CN114813770A 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 孔寒夫;兰艳平 申请(专利权)人: 上海御微半导体技术有限公司
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95;G01N21/88;G01N21/01
代理公司: 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 代理人: 黄海霞
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种半导体光学检测方法及系统,半导体光学检测方法包括采用光学系统对待测样本进行拍摄以得到初始图片,根据初始图片中不同区域的信号强度的大小将待测样本划分为若干个信号区域;获取反射率信息和系统光学效率信息;调整所述光学系统中的检测光源不同配置的光强,并根据反射率信息和系统光学效率信息计算得到不同光强的光学系统在信号区域中的信号强度;计算信号区域中的信号强度与预设检测强度之间的方差,以获取目标光强配置信息;按照目标光强配置信息对检测光源进行配置后,通过光学系统对待测目标进行拍摄以获取检测结果。本发明能够对具有不同反射率的目标进行表面快速检测,大幅度提高了检测效率。
搜索关键词: 半导体 光学 检测 方法 系统
【主权项】:
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