[发明专利]45°硅基反射镜及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202210237801.4 申请日: 2022-03-11
公开(公告)号: CN114594540A 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 费孝斌;黄寓洋 申请(专利权)人: 苏州苏纳光电有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 赵世发
地址: 215000 江苏省苏州市工业园*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种45°硅基反射镜及其制作方法。所述制作方法包括:使100晶面的硅片的表面沿110方向定向腐蚀产生倾斜面以及沿100方向定向腐蚀产生平行面,获得反射镜集合体;从所述反射镜集合体上切割分离获得反射镜前体;将所述反射镜前体中倾斜面的粗糙度等级抛光至镜面级;从抛光后的所述反射镜前体中切割分离获得45°硅基反射镜。本发明提供的制作方法通过腐蚀,先得到45°的基础面,再通过冷加工的方法,将45°斜面抛光至镜面级,弥补了目前的技术不足,大大提升了硅基反射镜的反射率,工艺过程以及反射镜的结构简单,显著降低了制作成本,满足了广泛应用的需求。
搜索关键词: 45 反射 及其 制作方法
【主权项】:
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