[发明专利]一种基于深度学习的光刻OPC数据库建立方法在审
| 申请号： | 202210234715.8 | 申请日： | 2022-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN114898169A | 公开（公告）日： | 2022-08-12 |
| 发明（设计）人： | 彭飞;许益多;宋毅 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G06V10/774 | 分类号： | G06V10/774;G06V10/82;G06N3/04;G06N3/08;G06F16/215;G06F16/54 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 胡琦旖 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于光学邻近校正技术领域，公开了一种基于深度学习的光刻OPC数据库建立方法。本发明包括构建数据集和深度学习回归网络，利用数据集对深度学习回归网络进行训练和测试，将训练好的网络模型作为光刻OPC数据库。本发明基于深度学习进行数据库构造，能够对数据库的数据集内的目标掩膜图像进行回归预测，快速回归预测出优化掩膜图像，且能够对数据库外的目标掩膜图像进行回归预测，解决了现有光刻OPC数据库的数据量需求庞大、占据内存大、调用图像时计算代价大速度慢、缺乏泛化能力等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 深度 学习 光刻 opc 数据库 建立 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学，未经武汉大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210234715.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种热压罐罐门结构
- 下一篇：电镀废液回收处理系统及其回收处理方法
