[发明专利]一种基于深度学习的光刻OPC数据库建立方法在审

专利信息
申请号: 202210234715.8 申请日: 2022-03-10
公开(公告)号: CN114898169A 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 彭飞;许益多;宋毅 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G06V10/774 分类号: G06V10/774;G06V10/82;G06N3/04;G06N3/08;G06F16/215;G06F16/54
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 胡琦旖
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于光学邻近校正技术领域,公开了一种基于深度学习的光刻OPC数据库建立方法。本发明包括构建数据集和深度学习回归网络,利用数据集对深度学习回归网络进行训练和测试,将训练好的网络模型作为光刻OPC数据库。本发明基于深度学习进行数据库构造,能够对数据库的数据集内的目标掩膜图像进行回归预测,快速回归预测出优化掩膜图像,且能够对数据库外的目标掩膜图像进行回归预测,解决了现有光刻OPC数据库的数据量需求庞大、占据内存大、调用图像时计算代价大速度慢、缺乏泛化能力等问题。
搜索关键词: 一种 基于 深度 学习 光刻 opc 数据库 建立 方法
【主权项】:
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