[发明专利]基于由光刻设备或过程特性表征的图案表示来选择该图案在审
| 申请号： | 202210228123.5 | 申请日： | 2022-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN115047719A | 公开（公告）日： | 2022-09-13 |
| 发明（设计）人： | 艾曼·哈穆达 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06N20/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文描述一种旨在选择用于训练或校准与半导体制造相关的模型的图案的方法和设备。所述方法包括：获得第一图案集合；将所述第一图案集合中的每个图案表示在表示域中，所述表示域对应于电磁函数；以及基于所述表示域，从所述第一图案集合中选择第二图案集合。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 光刻 设备 过程 特性 表征 图案 表示 选择 | ||
【主权项】：
暂无信息
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