[发明专利]一种CVD生长石墨烯粉体中进气管内壁积碳去除方法有效
| 申请号： | 202210156844.X | 申请日： | 2022-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN114289420B | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | 王增奎;金虎;邓科文;常博文 | 申请（专利权）人： | 常州二维碳素科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/032 | 分类号： | B08B9/032;C01B32/186 |
| 代理公司： | 常州易瑞智新专利代理事务所(普通合伙) 32338 | 代理人： | 孙盼盼 |
| 地址： | 213000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种CVD生长石墨烯粉体中进气管内壁积碳去除方法，包括以下步骤：S1、将石墨进气管插入液态金属中，然后通过石墨进气管向液态金属中通入含碳源气体/氮气的混合气体，在液态金属中生长石墨烯粉体，石墨烯粉体连续生长预定时间后，断开含碳源气体，氮气流量保持不变，暂停石墨烯粉体生长；S2、调整熔融液态金属的温度；S3、将石墨进气管的出气口移出液态金属的液面，然后向石墨进气管内通入氧气/氮气混合气体；S4、氧气/氮气混合气体通入设定时间后，断开氧气，氮气保持不变，降温。本发明方法不仅能高效去除进气管内壁积碳，而且操作简单，从暂停石墨烯粉体生长到再次生长间隔时间短，石墨烯粉体生长效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 生长 石墨 烯粉体中进 气管 内壁 去除 方法 | ||
【主权项】：
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