[发明专利]一种通过光电响应获得低维纳米器件物理参数的设备在审
| 申请号： | 202210042436.1 | 申请日： | 2022-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN114740322A | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 但亚平;李凯;许以农 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | G01R31/26 | 分类号： | G01R31/26 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;张静 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明提出了一种通过光电响应获得低维纳米器件物理参数的设备，包括：光源，用于照射低维纳米器件；电流检测单元，用于检测所述低维纳米器件在不同光强照射下产生的光电流，以及检测所述低维纳米器件在无光源照射下产生的暗电流；光强与电流关系获取单元，用于获取不同光强与相应光电流之间的关系；参数获取单元，用于根据所述光强与电流关系对已有的光照强度和纳米器件光电流之间关系的公式进行拟合从而获取参数 |
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| 搜索关键词： | 一种 通过 光电 响应 获得 纳米 器件 物理 参数 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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