[发明专利]抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法在审

专利信息
申请号: 202180083350.7 申请日: 2021-11-19
公开(公告)号: CN116745699A 公开(公告)日: 2023-09-12
发明(设计)人: 高木大地;中村刚;板垣友祐 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039
代理公司: 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 代理人: 毛立群
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种抗蚀剂组合物,含有基材成分(A)、产酸剂成分(B)、可光降解的碱(D0),可光降解的碱(D0)包含以通式(d0‑1)表示的化合物(D01)及以通式(d0‑2)表示的化合物(D02)。式中,Rd01为可具有取代基的链状或环状的脂肪族烃基。n01为1~10的整数。Rd02为具有氧原子(=O)的环状的脂肪族烃基。m为1以上的整数,Mm+为m价的有机阳离子。#imgabs0#
搜索关键词: 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法
【主权项】:
暂无信息
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