[发明专利]高精度温度补偿压阻式位置感测系统在审
| 申请号： | 202180079827.4 | 申请日： | 2021-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN116507581A | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | L·R·S·哈斯帕拉夫;N·潘迪;T·W·范德伍德;哈利勒·戈凯·叶根;J·V·奥沃卡姆普;塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;A·胡布里特;A·L·克莱因;G·布瑞恩达尼托里;E·A·奥索里奥欧利弗罗斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | B81B7/00 | 分类号： | B81B7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对所述多个反射镜中的每个反射镜，用于使所述反射镜移位的至少一个压电致动器，其中，所述至少一个压电致动器被连接至所述衬底。所述微反射镜阵列还包括将所述反射镜连接至所述至少一个压电致动器的一个或更多个导柱。也披露一种形成这种微反射镜阵列的方法。所述微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。所述可编程照射器可以用于光刻设备和/或检查和/或量测设备中。 | ||
| 搜索关键词： | 高精度 温度 补偿 压阻式 位置 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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