[发明专利]含二并环类衍生物抑制剂自由碱的晶型及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202180076060.X | 申请日： | 2021-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN116528859A | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 董华;杨龙;呙临松 | 申请（专利权）人： | 上海翰森生物医药科技有限公司;江苏豪森药业集团有限公司 |
| 主分类号： | A61K31/437 | 分类号： | A61K31/437 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 徐婕超 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
涉及一种含二并环类衍生物抑制剂自由碱的晶型及其制备方法和应用。具体涉及通式(I)所示的化合物的晶型、制备方法及含有治疗有效量的该化合物晶型的药物组合物，及其作为RET抑制剂在治疗癌症、炎症、慢性肝病、糖尿病、心血管疾病和AIDS等疾病中的应用。 |
||
| 搜索关键词： | 衍生物 抑制剂 自由 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海翰森生物医药科技有限公司;江苏豪森药业集团有限公司，未经上海翰森生物医药科技有限公司;江苏豪森药业集团有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202180076060.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：打印机
- 下一篇：用于制备工作电极的方法
