[发明专利]电磁波透过性金属光泽构件在审
| 申请号： | 202180021545.9 | 申请日： | 2021-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN115279585A | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 横井辽太郎;中井孝洋;梨木智刚 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B32B15/04 | 分类号： | B32B15/04;B32B3/10;B32B3/14;B32B7/025;B32B9/00;B32B15/20;C23C14/06;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种电磁波透过性金属光泽构件，其具备：基体、以连续状态设置于前述基体上的含有氧化铟的层、和在前述含有氧化铟的层上形成的金属层，前述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态，作为前述金属层与前述含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻为2.50E+8Ω/□以上。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁波 透过 金属 光泽 构件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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