[外观设计]等离子处理装置用基座环有效
| 申请号： | 202130685379.5 | 申请日： | 2021-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN307212651S | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 中谷信太郎;一野贵雅;中本和则;田中优贵 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | 15-99 | 分类号： | 15-99 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 曾贤伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 1.本外观设计产品的名称：等离子处理装置用基座环。2.本外观设计产品的用途：本产品为在半导体制造中用于等离子处理装置的基座环，用于保护静电吸盘及射频馈电环免受等离子体影响。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图3。5.在使用状态及标示出各部名称参考图中，C‑本外观设计产品，D‑等离子处理装置用电极板外周环，E‑硅晶片，F‑等离子受光端口，G‑等离子处理装置用电极板。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 基座 | ||
【主权项】：
暂无信息
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