[实用新型]一种便于调控位移的打磨设备有效
申请号: | 202123308893.0 | 申请日: | 2021-12-27 |
公开(公告)号: | CN216542597U | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 张林山;刘晶晶 | 申请(专利权)人: | 创客天下(天津)科技发展有限公司 |
主分类号: | B24B27/033 | 分类号: | B24B27/033;B24B41/06;B24B47/00;B24B47/12;B24B47/16 |
代理公司: | 北京奥肯律师事务所 11881 | 代理人: | 马聪 |
地址: | 300131 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种便于调控位移的打磨设备,包括打磨台,打磨台内设有通槽,打磨台的一侧安装有打磨调节机构,打磨台在打磨调节机构的一侧安装有第一夹紧机构,打磨台的另一侧设有导向槽,打磨台在导向槽的上侧设有滑动槽,导向槽内安装有调节机构,调节机构连接有第二夹紧机构,第二夹紧机构滑动安装在滑动槽内。本实用新型通过对电动推杆的控制,使电动推杆能够带动打磨辊在工件表面进行来回的打磨抛光,使得打磨更加全面,提高了整体上工作效率,打磨后符合工艺要求的表面光滑,且打磨后的厚度均匀符合各项工艺要求标准,并且通过第一夹紧机构与第二夹紧机构,能够对工件进行固定的装夹,能够有效的防止在打磨时工件出现滑移。 | ||
搜索关键词: | 一种 便于 调控 位移 打磨 设备 | ||
【主权项】:
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