[实用新型]一种研磨抛光装置有效
| 申请号： | 202123278261.4 | 申请日： | 2021-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN217122778U | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 赖林;杨欣霖;周凌志;王光明;吴平;姜泽飞 | 申请（专利权）人： | 深圳市真迈生物科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B27/00 | 分类号： | B24B27/00;B24B55/00;B24B49/12;B24B49/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518023 广东省深圳市罗湖区清水河街道清水河社区清*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种研磨抛光装置。该研磨抛光装置包括：机架、高度调节组件、驱动组件、控制组件和电源组件，高度调节组件设置有高度可调的载物台，载物台具有适于放置待加工零件和研磨抛光料的安装部，驱动组件设置有移动部，移动部设置有磁体，磁体用于吸引研磨抛光料，驱动组件适于驱动移动部移动，以使磁体带动安装部内的研磨抛光料对待加工零件进行研磨抛光。根据本实用新型实施例的研磨抛光装置，载物台的高度可调节，且可通过控制组件控制移动部的移动，以使移动部上的磁体带动安装部内的研磨抛光料对待加工零件进行研磨抛光，研磨抛光装置的精度高、可控性和稳定性好，具有较强的产品竞争力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 抛光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市真迈生物科技有限公司，未经深圳市真迈生物科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202123278261.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种矿用多参数检测仪
- 下一篇：一种液压胶管防脱支架
