[实用新型]一种稳定运动的抛光磨头有效
申请号: | 202122776615.1 | 申请日: | 2021-11-12 |
公开(公告)号: | CN216265365U | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 尹志成 | 申请(专利权)人: | 佛山市南海区海瑜机电实业有限公司 |
主分类号: | B24B41/04 | 分类号: | B24B41/04;B24B47/16 |
代理公司: | 广州速正专利代理事务所(普通合伙) 44584 | 代理人: | 黄尖尖 |
地址: | 528000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种稳定运动的抛光磨头,该抛光磨头旨在解决现有技术的抛光磨头的缓冲效果不好,难以实现磨头轴的稳定运动的技术问题。该抛光磨头包括磨头座和活动设置于所述磨头座内壁的磨头轴;所述磨头座上端固定安装有磨头盖,所述磨头座外壁固定安装有第一骨架油封,所述第一骨架油封下端固定安装有第一深沟球轴承,所述第一深沟球轴承下端固定安装有第二深沟球轴承。该抛光磨头的磨头轴在转动时其外壁与O形圈的内壁相贴合,从而可以让磨头轴实现左右摇摆的功能,凸轮的特点是凸轮曲面的起伏变化,使得磨头轴沿摆杆轴本体往复摆动,摆杆轴本体又驱动从动摆杆摆动,各摆杆轴带动磨块脚连续往复摆动,从而实现该装置磨头轴的稳定运动。 | ||
搜索关键词: | 一种 稳定 运动 抛光 | ||
【主权项】:
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