[实用新型]一种光刻工艺匀胶机匀胶腔结构有效
| 申请号： | 202122342780.6 | 申请日： | 2021-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN215940476U | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 马宁强;王双谋;陈涛;何舜晗 | 申请（专利权）人： | 西安派瑞功率半导体变流技术股份有限公司 |
| 主分类号： | B05C11/06 | 分类号： | B05C11/06;B05C11/10;G03F7/16;B05C13/02 |
| 代理公司： | 西安文盛专利代理有限公司 61100 | 代理人： | 彭冬英 |
| 地址： | 710077 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种光刻工艺匀胶机匀胶腔结构，主要包括包括匀胶腔外腔体结构、匀胶头机构、支架机构，本实用新型背胶保护罩一方面起到机械防护的作用，另一方面通过注入氮气，在背胶保护罩与芯片之间形成微正压环境，氮气气流从背胶保护罩下面进入，从背胶保护罩与芯片之间的缝隙排出，对胶丝起到吹扫作用，做到了双重防护功能。配合匀胶头机构的取片和匀胶两个工作状态，通过芯片背面的保护罩机械保护和氮气保护双重保护功能，实现了芯片在匀光刻胶的过程中背胶保护功能，彻底解决了背胶玷污问题，摆脱了工艺返工，节约人工和材料，提高了工艺质量，本实用新型既可以实现涂甩光刻胶的基本功能，同时又能实现背胶防溅保护功能，达到工艺目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 工艺 匀胶机匀胶腔 结构 | ||
【主权项】：
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