[实用新型]一种用于硅片背损伤机高均匀性喷头有效
| 申请号： | 202121681353.4 | 申请日： | 2021-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN215394676U | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 韩云霄;杨波;李战国;田素霞 | 申请（专利权）人： | 麦斯克电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24C5/04 | 分类号： | B24C5/04 |
| 代理公司： | 郑州豫鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 41178 | 代理人： | 轩文君 |
| 地址： | 471000 河南省洛*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于硅片背损伤机高均匀性喷头，本实用新型有效解决现有的喷砂喷头使用过程中存在瑕疵且其喷嘴不可更换的问题；解决的技术方案包括：橡胶喷嘴与圆形腔体之间可根据需要进行更换，以适应针对不同面积大小的硅片进行喷砂处理，使得该喷头的适应性得到大大提高，并且该喷头加工简单、安装操作便捷，使喷砂更为均匀可有效提高硅片的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 硅片 损伤 均匀 喷头 | ||
【主权项】：
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