[实用新型]一种低剖面低入射角度敏感性的吸波表面有效
| 申请号： | 202121612802.X | 申请日： | 2021-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN215816434U | 公开（公告）日： | 2022-02-11 |
| 发明（设计）人： | 杨歆汨;汤思宇;张颖;黄晨路;万家辉;陈志 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学长三角研究院（湖州） |
| 主分类号： | H01Q17/00 | 分类号： | H01Q17/00 |
| 代理公司： | 成都东恒知盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51304 | 代理人： | 何健雄 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市西*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种低剖面低入射角度敏感性的吸波表面，包括介质基板、印刷在介质基板正面的由有耗频率选择单元排布组成的二维平面周期阵列、金属背板；有耗频率选择单元由边缘交指化的电阻性方环贴片以及金属方贴片嵌套而成。本实用新型能够在工作频段内达到90％以上的吸波率，同时对于TE、TM极化，俯仰入射角在0～40°范围以及任意方位入射角的入射电磁波，保持较好的性能稳定性。相比于现有技术，本实用新型的优点是剖面极其低，重量轻，加工较方便，在工作频带内吸波率高，极化稳定性和角稳定性较好，有很好的工程应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 剖面 入射 角度 敏感性 表面 | ||
【主权项】：
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