[实用新型]一种均匀离心甩干式三轴浸银机构有效
| 申请号： | 202121153745.3 | 申请日： | 2021-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN215816344U | 公开（公告）日： | 2022-02-11 |
| 发明（设计）人： | 席波 | 申请（专利权）人： | 苏州威斯东山电子技术有限公司 |
| 主分类号： | H01P11/00 | 分类号： | H01P11/00 |
| 代理公司： | 苏州企知鹰知识产权代理事务所(普通合伙) 32420 | 代理人： | 陈超 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及5G通讯产品加工领域，公开了一种均匀离心甩干式三轴浸银机构，包括支撑板、转动传动轴、升降驱动轴、中间传动组件和载架。本实用新型用于微波介质陶瓷基体的浸银作业，针对现有的浸银机构存在离心甩干效果不理想，易导致基体表面浸银层不均匀的问题，对现有的浸银机构进行改进，在不影响浸银机构现有功能的基础上，改善离心甩干效果。本实用新型采用类行星式结构的离心甩干设计，设置多个呈环形分布的载架，在自转的同时，绕转动传动轴进行公转，提高了载架上各个位置的离心力的一致性，使各个微波介质陶瓷基体表面的银浆层厚相似，同时保证基体每个面的银浆厚度均匀，误差能够控制在5μm以内，使用效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 离心 甩干式三轴浸银 机构 | ||
【主权项】：
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