[实用新型]一种纳米压印光刻机有效
| 申请号： | 202121016567.X | 申请日： | 2021-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN215297936U | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 常熟埃眸科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 天津市科航尚博专利代理事务所(普通合伙) 12234 | 代理人： | 吴疆 |
| 地址： | 215505 江苏省苏州市常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种纳米压印光刻机，包括底座、运动台、光源箱和压印箱，还包括螺纹杆和伺服电机，所述底座顶部设有运动台，所述底座顶部一侧通过螺栓安装有支撑架，所述支撑架顶部一侧通过螺栓安装有上板，所述上板底部设有压印箱，所述上板上贯穿焊接连接有内螺纹套，所述内螺纹套内螺纹插设有螺纹杆，所述压印箱顶部通过螺栓安装有伺服电机。整体纳米压印光刻机使用稳定高效，可助于人员对多种规格的晶圆进行压印光刻的同时，可有效提高压印光刻的品质，有效解决外部光照的影响，具有较高的实用性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 压印 光刻 | ||
【主权项】：
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