[实用新型]一种用于分子束外延设备中的带重量监测的磷源炉有效

专利信息
申请号: 202121011823.6 申请日: 2021-05-12
公开(公告)号: CN215209693U 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 郭帅;冯巍;杜全钢;谢小刚 申请(专利权)人: 新磊半导体科技(苏州)股份有限公司
主分类号: C30B23/02 分类号: C30B23/02;C30B25/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215151 江苏省苏州市高新区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供一种用于分子束外延设备中的带重量监测的磷源炉,涉及半导体制造技术领域。该磷源炉包括蒸发炉和冷却炉,蒸发炉包括法兰盖、坩埚及加热丝;冷却炉包括第二壳体和第三壳体,第二壳体套设于第一壳体外部,第三壳体套设于第二壳体外部;第二壳体的顶部通过波纹管与法兰盖连接,第二壳体的底面通过波纹管与法兰连接,在底面与第三壳体之间设置压力传感器,传感器与处理器通信连接,处理器根据来自传感器的数据计算第二壳体的重量。通过能够伸缩的波纹管将第二壳体的两端分别连接至法兰盖和法兰,从而使第二壳体能够沿垂直于底面的方向移动,从而可以通过压力传感器来感测第二壳体的实时重量,实现对磷源炉中白磷重量的实时监测。
搜索关键词: 一种 用于 分子 外延 设备 中的 重量 监测 磷源炉
【主权项】:
暂无信息
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