[实用新型]一种半导体制冷结构以及美容仪有效
| 申请号： | 202120923694.1 | 申请日： | 2021-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN215821349U | 公开（公告）日： | 2022-02-15 |
| 发明（设计）人： | 李兵 | 申请（专利权）人： | 深圳市予一电子科技有限公司 |
| 主分类号： | A61F7/00 | 分类号： | A61F7/00;A61B18/18 |
| 代理公司： | 深圳瑞天谨诚知识产权代理有限公司 44340 | 代理人： | 王昌花 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种半导体制冷结构及美容仪。其中，所述半导体制冷结构包括PN电偶层以及PN电偶层两端的热面和冷面，所述PN电偶层包括若干对P型和N型半导体粒子联结成的电偶对；所述热面由超导管直接形成或者与超导管连接；所述超导管为铝拉伸管道，内部一体成型地形成有多孔微槽通道且形成毛细结构；所述多孔微槽通道内容纳液体制冷剂。所述美容仪的头部安装所述半导体制冷结构，用于给工作面制冷或者将冷面直接作为工作面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 制冷 结构 以及 美容 | ||
【主权项】：
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