[实用新型]一种反射膜加工用防偏移打孔装置有效

专利信息
申请号: 202120786086.0 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN215149569U 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 李明伟 申请(专利权)人: 四川省维奇新材料股份有限公司
主分类号: B26D7/02 分类号: B26D7/02;B26D7/01
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 635107 四川省达*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种反射膜加工用防偏移打孔装置,包括:台体,所述台体用于放置待加工的反射膜;打孔机构,所述打孔机构用于对放置在台体上的反射膜进行打孔加工的工作,所述打孔机构固定安装在台体上表面;抵压机构,所述抵压机构为两组,所述抵压机构用于对放置在台体上的待加工的反射膜进行定位工作,所述抵压机构包括压紧组件和驱动组件,所述压紧组件用于对放置在台体上的待加工的反射膜上表面进行压紧工作,所述驱动组件用于控制压紧组件在水平面上移动。本实用新型设计合理,打孔装置可根据待打孔加工反射膜的尺寸大小快速调节定位组件的水平位置对其进行定位工作,从而提高了反射膜打孔加工的工作效率。
搜索关键词: 一种 反射 工用 偏移 打孔 装置
【主权项】:
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