[实用新型]一种用于屏蔽罩的绝缘膜结构有效
| 申请号: | 202120660561.X | 申请日: | 2021-04-01 |
| 公开(公告)号: | CN214757655U | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
| 发明(设计)人: | 黄育祥 | 申请(专利权)人: | 苏州东达电子材料有限公司 |
| 主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本实用新型属于绝缘膜领域,尤其为一种用于屏蔽罩的绝缘膜结构,包括由上至下依次分布的缓冲层、绝缘层、屏蔽层、隔膜层和粘接层,所述绝缘层的顶面设有缓冲层,所述缓冲层与所述绝缘层固定连接,所述绝缘层的底面设有屏蔽层,所述屏蔽层与所述绝缘层固定连接,所述屏蔽层的底面设有隔膜层,所述隔膜层与所述屏蔽层固定连接,所述隔膜层的底面设有粘接层;通过设置包括缓冲层、绝缘层、屏蔽层、隔膜层和粘接层的绝缘膜结构,其中粘接层包括若干个呈矩阵分布的粘接单元,粘接单元之间设有垂直交错的间隙,从而当屏蔽罩工作发热时,粘接单元发生膨胀或挤压间隙,能够保证粘接单元不会与屏蔽罩表面脱落,粘接更加稳定。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 用于 屏蔽 绝缘 膜结构 | ||
【主权项】:
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