[实用新型]一种新型的高压VDMOS器件有效
申请号: | 202120636868.6 | 申请日: | 2021-03-29 |
公开(公告)号: | CN214542246U | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 陈利 | 申请(专利权)人: | 厦门芯一代集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/16;H01L29/10 |
代理公司: | 厦门荔信航知专利代理事务所(特殊普通合伙) 35247 | 代理人: | 马小玲 |
地址: | 361000 福建省厦门市中国(福建)*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种新型的高压VDMOS器件,其包括:N型重掺杂衬底,N型轻掺杂缓冲区,P型阱区,N型重掺杂源极区,P型重掺杂源极区,高K绝缘层,栅极多晶硅区,栅极电极,源极电极和漏极电极;漏极电极形成在N型重掺杂衬底下表面,N型重掺杂衬底上表面设有N型轻掺杂缓冲区,N型轻掺杂缓冲区上表面设有两个P型阱区,在每个P型阱区上表面设有两个N型重掺杂源极区和一个P型重掺杂源极区,在两个P型阱区和N型轻掺杂缓冲区上表面设有高K绝缘层,高K绝缘层的上表面设有栅极多晶硅区,栅极多晶硅区的上表面设有栅极电极,两个N型重掺杂源极区和一个P型重掺杂源极区的上表面设有源极电极。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 高压 vdmos 器件 | ||
【主权项】:
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