[实用新型]一种机械化学的研磨工装有效
| 申请号： | 202120549944.X | 申请日： | 2021-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN214490145U | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;惠宏业;王学泽;杨加明 | 申请（专利权）人： | 上海江丰平芯电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/30 | 分类号： | B24B37/30;B24B37/20 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 201400 上海市奉贤区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种机械化学的研磨工装，包括真空吸盘、环形限位结构和研磨垫；环形限位结构设置于所述真空吸盘上，以中心线为基准；环形限位结构的外径等于真空吸盘的外径；研磨垫的设置于环形限位结构内；研磨垫的直径等于环形限位结构的内径；研磨垫对应的真空吸盘的表面上设置有第一凹槽、第二凹槽和第三凹槽；第一凹槽的直径＜研磨垫的直径；第二凹槽的直径＜第一凹槽的直径；第三凹槽的直径＜第二凹槽的直径；第一凹槽的深度＜第二凹槽的深度＜第三凹槽的深度；第二凹槽的侧壁上设置有滚花花纹。解决了在研磨垫在机械化学研磨中存在的偏心问题，同时也使得研磨得到晶圆表面更加均一，使得晶圆在溅射镀膜后得到的膜层具有良好的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 机械 化学 研磨 工装 | ||
【主权项】：
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