[实用新型]一种便于上料的多弧离子镀膜用镀膜设备有效
| 申请号: | 202120471089.5 | 申请日: | 2021-03-04 |
| 公开(公告)号: | CN214655201U | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
| 发明(设计)人: | 张笑 | 申请(专利权)人: | 上海仟纳真空镀膜科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/02 | 分类号: | C23C14/02;C23C14/24;B08B3/02 |
| 代理公司: | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 崔巍 |
| 地址: | 201107 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种便于上料的多弧离子镀膜用镀膜设备,包括镀膜设备,所述镀膜设备的左侧固定连接有箱体,所述箱体内腔的左侧贯穿设置有传送机构,所述箱体内腔左侧的底部固定连接有滤网,所述箱体内腔左侧的顶部固定连接有水箱。本实用新型通过设置镀膜设备、烘干风机、连接杆、嵌入雾化喷头、电机、液泵、抽液管、管网、传送机构、安装板、红外线加热管、滤网、擦拭辊、箱体、控制器、壳体、螺纹筒、螺纹杆和通孔的配合使用,解决了现有的多弧离子镀膜用镀膜设备在使用过程中通常无法在镀膜前对需要镀膜的基材进行清洗烘干,使得在镀膜过程中可能会因表面附着的灰尘杂质而导致镀膜精度造成一定影响的问题。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 便于 离子 镀膜 设备 | ||
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