[实用新型]一种薄片类介质处理装置有效
| 申请号： | 202120427292.2 | 申请日： | 2021-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN214563970U | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 张大伟;王永广;王春涛;杨现刚 | 申请（专利权）人： | 山东新北洋信息技术股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J11/00 | 分类号： | B41J11/00;B65H29/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 264203 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及薄片类介质处理技术领域，具体公开了一种薄片类介质处理装置，该薄片类介质处理装置包括机架、第一辊和检测组件，机架设置有用于输送薄片类介质的输送通道，第一辊部分地伸入输送通道内，且在输送通道内移动的薄片类介质能够带动第一辊自转；检测组件包括码盘和与码盘配合的光电传感器，码盘能够随第一辊同步转动，光电传感器安装于机架，且光电传感器用于向码盘发射光信号并输出与第一辊的转动角度对应的脉冲信号，由于第一辊的转动仅与薄片类介质是否移动有关，当薄片类介质因打滑而停止移动时，第一辊也将随之停止转动，光电传感器将停止输出脉冲信号，如此可使得薄片类介质移动距离的检测结果更加准确。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄片 介质 处理 装置 | ||
【主权项】：
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