[实用新型]一种ALD加工设备

摘要

本实用新型涉及一种ALD加工设备。加工设备的反应器包括真空腔室以及反应腔室，反应腔室内置于真空腔室内，反应腔室的底部开设有进气通道及出气通道，进气通道和出气通道以反应腔室的底部的中心线相对设置，反应腔室的侧壁上设置有第一料口，真空腔室的侧壁上设置有第二料口，第一料口和第二料口位于反应器的同一侧，输送装置设置在反应器的外侧，输送装置包括输送机构、将第一料口密封的第一密封门以及将第二料口密封的第二密封门。本实用新型保证沉积膜的成型质量和一致性，成膜效率高，周期短，提高前驱体源的利用率，适合批量性生产，具有很好的实用价值。